任何一种刻刀，也没有任何人，能在小小的硅晶片上刻画出纳米级别的线路。
芯片的线路，极其复杂精密，根本不可能由人工完成，只能靠光刻机才行。
回到轧钢厂，陆明宇坐在办公室中，拿着绘画工具，仔细绘制光刻机图纸。
光刻机，精密复杂，哪怕是他，两个月的时间，也才完成不到十分之一，这种工作量，太大。
但是又不可能交给其他人。
光刻机这种东西，他们别说绘图，就连听都没有听到过，如何绘图。所以，只能由他一个人独立完成。
幸好，在系统的帮助下，可以一边绘图，一边模拟，争取一次性完成光刻机图纸。
他设计的光刻机，不是后世那种高精度的极紫外光刻机，而是与第一代光刻机重复曝光机技术相当。
后世那种光刻机，他的确能设计出来，可是考虑到现在的生产技术，根本无法生产出来，就只能研发第一代光刻机。
虽然技术较为简单，而开始陆明宇知道第一代光刻机的缺点，它的精度，只能达到一微米，也就是纳米的一千倍。
即便蚀刻出来的行骗线路没有达到纳米即便，可是由微米级芯片制造的计算机，运算速度，也远远超过晶体管计算机。
还有就是，重复曝光机需要人工不断校准，这个缺点，现在即便是陆明宇也无法解决，毕竟数字化控制技术还没有研究出来，只能依靠人工去调整。
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