半天之后。
陈普之终于从机动的情绪之中冷静了下下来。
看了看上面的技术。
才开口道。
“这就是最新的EUV光刻吧。”
“没错。”
韩枫笑了笑。
EUV光刻，也就是极紫外线光刻。
是世界上最先进的光刻机光刻技术。
在这之前。
世界上只有的ASML掌握了这种技术。
还只在实验的之中。
现在不一样了。
韩枫同样有了这种技术。
而且精度的比风车国ASML的精度，高上一个数量级。
就是这么点差距。
恐怕ASML用几十年才能突破。
越是精密的设备。
制造难度越高。
精密程度到了一定程度。
制造难度将呈几何数量级的提高。
ASML想要追上来。
做梦去吧。
更不用说。
等到他们研究出来。
韩枫自然有新技术等着他们。
不过目前。
这种技术够用了。
底牌要一张一张拿出来。
才能让敌人绝望。
“我来给您介绍一下EUV吧。”
韩枫说了一句，介绍道。
“EUV光刻的机制和以前的光刻不同。”
“EUV多层和紫色吸收体，构成用于成像线的掩膜图案。”
“底部从掩膜图案反射的红色EUV辐射。”
“在黄色抗蚀剂和棕色基板中被吸收。”
“产生光电子和蓝色的二次电子。”
“这些电子增加了抗蚀剂中化学的反应程度。”
看了一眼后面开始拿平板记录的研究员。
他再次开口道。
“本质上，随机的二次电子叠加在光学图像上。”
“不需要的二次电子曝光导致分辨率损失。”
“可观察到的线边缘粗糙度和线宽变化。”
“EUV光刻和传统的紫外线光刻，最大的不同。”
“其实就是EUV并不是由激光器激发。”
“而是由准分子激光激发的锡或氙等离子体发射。”
“在生产里面，可能能达10NM特征尺度。”
听到这后面的人都有些吃惊。
光是一个光源刻度的改变。
竟然的能把的尺度降低到这种程度。
实在是太可怕了。
“我记得的ASML已经有EUV量产样机了吧。”
陈普之想了想开口说到。
“没错。”
|“15年的时候，ASML就发布了ETX系统的样机。”
“也是世界上首个用极紫外光刻的生产平台。”
“可提供22NM的分辨率的传统光刻和18NM的离轴光刻。”
“ETX步进扫描系统。”
“更使采用了13,5NMEUV光刻，由锡基等离子源产生。”
“如果我没记错的话。”
“该系统采用的卡尔蔡司SMT全反射4倍光学变焦镜头组件。”
“数值孔径为0.33，最大曝光范围是26X33NM。”
听到这个，陈普之嘴角抽了抽。
光是这个镜头。
星汉就制造不出来。
别小看一个小小的光学镜头。
光是这个镜头的单价就在几万美元和几十万美元不等。
光学仪器一旦沾上了高精密三个字。
那价格和制造难度是转着翻的往上涨。
星汉共和国根本早不出这种级别的镜头。
只能从外面购买。
这也是的限制国产光刻机研发的重要原因。
像是步进系统使用的电机。
这是负责系统扫描探头在光刻机内部运动的。
好像看起来非常简单。
但是。
国外产的电机。
无论是稳定性，还是噪音印制，还是减震性能。
都比国内好的不是一点半点。
国内电机根本办法满足步进系统匀速的运动的标准。
他们只能花大价钱购买国外的。
但这样一来。
他们就违背了研究光刻机的初衷。
星汉共和国并不是没有能用的光刻机。
而是缺少自己制造光刻机的能力。
一旦国外卡我们的脖
手机支付宝搜索P2zPYPB74GJ即可领取作者发的红包，赶快参与吧！
淘宝双11超级红包，复制淘口令$bkb13lYsLPg$，打开手机淘宝即可领取。
若淘口令失效，请点击此处链接领取
京东双11超级红包，复制京口令￥UANeFApAs8a1nuds￥，打开手机京东即可领取。
若京口令失效，请点击此处链接领取
阅读模式无法加载下一章，请退出
来源4：http://b.faloo.com/p/819874/25.html