而且需要特别稳定。
稍微一个震动，就可能造成芯片的损坏。
SEMM已经有了成功研发光刻机的经验。
在这上面倒是有点心得。
起码能够稳定控制，将精度保持在纳米范围内。
真正的难处。
其实就是激光器。
星汉共和国在精密仪器方面其实是非常落后的。
遍数国内的实验室。
使用的高端设备几乎都是国外产的。
只有少量的设备完成了国产化。
并非星汉共和国的科研人员不聪明。
而是星汉共和国的材料积累不够。
和老牌国家比起来，星汉还差的很远。
光刻机本质上利用的是紫外线对的硅进行曝光刻画。
现在先进的光刻机。
使用的几乎都是深紫外线。
波长在238NM和193NM.
其中光刻系统使用的深紫外准分子激光器。
是238NM波长的氟化氪激光器和193NM波长的氟化氩激光器。
通常。
准分子激光器，设计为与特定的气体混合结合在一切。
改变波长是非常困难的。
例如。
空气开始在193NM波长附近吸收效果显著增强。
当移动到亚193NM波长的时候。
就需要在光刻工具上面安装真空泵。
和吹扫设备。
这是难度非常高的操纵。
对的星汉共和国来说，基本不可能达成。
根本没有这方面的技术积累。
这也是陈老为难的原因。
紫外线的波长和的光学光刻，有着密切的联系。
他们根本没有更改紫外线波长的能力。
更精密的光刻，自然无从谈起。
“陈老，没想过液体浸没技术吗？”
韩枫也是揉了揉额头开口说到。
“哪里有那么容易。”
陈老满脸苦笑。
光刻机液体浸没技术，也被称为浸没式光刻。
他是一种用于制造集成电路，是光刻分辨率增强的技术。
其利用折射率大于1的的液体介质。
通常是超纯的去离子水。
来替换透镜和的晶片表面的空气间隙。
使用这种技术。
能把的光学光刻扩展到低于50NM特征尺寸。
也算是一种补偿措施。
像是ASML早就研发了这种设备。
光源和国内的一样。
但是利用了步进送啊去秒系统。
是一种双级浸没式光刻工具。
能够生产出38NM的芯片。
如果掌握了这种技术也还算是好的。
可现在看来。
陈老明显没有研究出这种技术。
“韩董，咱们也想用这种技术。”
“可惜系统编码不出来啊。”
陈老满脸的苦笑。
韩枫也只能叹息一声。
操作系统对于精密机械来说，那如同大脑一样。
好的操作系统。
甚至能把机器的功能提升几个数量级。
像是大型的五轴加工中心。
就是因为外国锁死了系统的使用区域。
即使星汉弄回来也没法用。
使用国内的系统，精度又会降低很多。
这也非常的无奈。
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